Процесс ионно-плазменного напыления

Во время бомбардировки поверхности твердого тела отдельно взятыми атомами, молекулами или ионами, имеющими энергию, большую энергии связи атома тела, материал мишени распадается.

Если взять и поблизости разместить специальную подложку, в этом случае часть атомов распыляемой мишени попадет на подложку и напыляется образуя такую себе пленку.

Для бомбардирования серебряной мишени лучше всего использовать заряженные частицы – ионы, ведь их легко разгонять до необходимой вам энергии в электрическом поле. Помимо этого для напыления используют специальные источники ионных пучков, в этих пучках ионы отсортированы по массе тела и имеют одну и ту же энергию, при разном весе. Правда, чаще всего в качестве источников ионов применяют газоразрядную плазму, из неё положительно заряженные ионы вытягиваются отрицательно заряженной мишенью. Данный способ распыления в народе называют ионно-плазменным напылением.

Вся энергия ионов, которая падает на мишень, определяется разностью потенциалов, пройденной ионом на последней длине свободного пробега перед мишенью, по причине того, что ранее приобретенную энергию он полностью теряет в столкновении с атомами газа. Из-за характера процессов существует большой разброс длины свободного пробега, так что энергия ионов падающих на мишень, имеет огромный разброс, помимо этого ионы падают на мишень под различным углом. Так что именно по этой причине сам процесс ионно-плазменного напыления, в котором эффекты от ионного напыления и явления в разряде газа тесно переплетаются друг с другом, исследовать намного трудней, чем сам процесс ионного напыления.